Alumni “Message”: from World’s top semiconductor equipment manufacturer. 世界トップシェア半導体装置メーカー、卒業生のメッセージ

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English follows Japanese

入社後2年半は、会社の主力製品である半導体シリコンウェハ洗浄装置のプロセス開発や、顧客先技術サポート等を担当。2017年後半~2021年初頭まで約3年半の間、中国駐在を経験して新規顧客開拓や現地法人スタッフの育成など技術営業的な業務を担当してきました。

レンゴロ研究室では微粒子挙動と植物を絡めた研究をしておりましたが、現在の会社は半導体製造業界なので、直接的に関係した分野ではありません。しかし、大学時代に学んだことが思わぬ所で役に立つ場面が多々ありました。

例えば、学部時代に移動現象論でバルク流れと拡散の違いを学びました。最先端の半導体デバイス上には数~数十ナノオーダーの微細な凹凸(例えば剣山のようなイメージ)が無数に形成されており、その凹凸間を綺麗に洗浄することが求められます。突起物の中に上手く洗浄液を行き渡らせるには、どのようなパラメータを振ればいいか?など、Fickの拡散法則に基づくシミュレーションや実験を通じて、各顧客製品に適した洗浄プロセスの提案などをしています。

また、卒論と修論を行った研究室では、微視的な観点から物理現象を捉える観点を学びました。例えば凹凸の隙間に付着したナノレベルのゴミを綺麗に除去するために水や薬液をウェハに噴霧する製品を提供しておりますが、この時、凹凸形状を壊さずに、ゴミだけを取り除いて欲しいといった顧客要望を受けることがあります。そのためには、全液滴のエネルギーを可能な限り均一にする必要があり、これは粒度分布の考え方です。

レンゴロ研究室では、外国人在籍比率が多かったので日頃より、下手な英語ですが会話する機会がありました。中国駐在期間でも客先で外国語によるプレゼンをする機会も多々あったため、技量は無いですが、度胸だけはついたので、今思い返せば「あの時、外国人相手にたくさん冷や汗をかいておいてよかったな」と今では思ってます。

January 2022. by YT (Master graduated in 2015 修士修了生)

For the first two and a half years after joining the company, I was in charge of process development for semiconductor silicon wafer cleaning equipment, the company’s main product, and technical support at customer sites, etc. From late 2017 to early 2021, I was stationed in China for about three and a half years, where I was responsible for technical sales tasks such as developing new customers and training local subsidiary staff.

In Lenggoro lab, I worked on research involving nanoparticle behavior and botanical materials, but my current company is in the semiconductor manufacturing industry, so this is not a field that I was directly involved with. However, there were many situations where what I learned in the university was useful in unexpected places.

For example, I learned the difference between bulk flow and diffusion in transport phenomena studies as an undergraduate. On state-of-the-art semiconductor devices, there are numerous microscopic bumps on the order of several to several tens of nanometers (e.g., a swordsman-like image), and it is necessary to clean between these bumps. What parameters should be varied in order to successfully spread the cleaning solution among the bumps? Through simulations and experiments based on Fick’s diffusion law, I propose cleaning processes suitable for each customer’s products.

During my Bachelor or Master thesis, I also learned perspectives on physical phenomena from a microscopic point of view. In our company, for example, we provide products that spray water or chemical solutions onto wafers to cleanly remove nano-level debris adhering to bumpy gaps. At this time, we sometimes receive customer requests to remove only the debris without destroying the bumpy shape. To do this, we need to make the energy of all droplets as uniform as possible, which is the concept of particle size distribution.

In Lenggoro Lab, there were many non-Japanese students, so I had opportunities to speak with them even though my English was not very good. I had many opportunities to give presentations in foreign languages to clients during my stay in China, so although I was not skilled, I had the confidence to do so.

January 2022. by YT (Master graduated in 2015 修士修了生)